- thermische Oxidation
- 1) термическое окисление2) термическое оксидирование
Deutsch-Russische Wörterbuch der Chemie. 2014.
thermische Oxidation
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Thermische Oxidation von Silizium — Die thermische Oxidation von Silizium ist in der Halbleitertechnik ein Beschichtungsverfahren, bei dem auf einem einkristallinen Siliziumsubstrat (beispielsweise einem Silizium Wafer) eine dünne Schicht aus amorphen Siliziumdioxid aufgebracht… … Deutsch Wikipedia
Thermische Solaranlage — Systemschaubild eines Solarkreislaufs mit „Solarstation“ Als thermische Solaranlage werden Solaranlagen bezeichnet, die Wärme aus der Sonneneinstrahlung nutzbar machen (Solarthermie). Die Wärme wird in der Prozesstechnik oder der Gebäudetechnik… … Deutsch Wikipedia
thermische Oxydation — šiluminis oksidavimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. heat oxidation; thermal oxidation vok. thermische Oxydation, f; thermische Oxydierung, f rus. термическое окисление, n; термическое оксидирование, n pranc. oxydation… … Radioelektronikos terminų žodynas
thermische Oxydierung — šiluminis oksidavimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. heat oxidation; thermal oxidation vok. thermische Oxydation, f; thermische Oxydierung, f rus. термическое окисление, n; термическое оксидирование, n pranc. oxydation… … Radioelektronikos terminų žodynas
heat oxidation — šiluminis oksidavimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. heat oxidation; thermal oxidation vok. thermische Oxydation, f; thermische Oxydierung, f rus. термическое окисление, n; термическое оксидирование, n pranc. oxydation… … Radioelektronikos terminų žodynas
thermal oxidation — šiluminis oksidavimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. heat oxidation; thermal oxidation vok. thermische Oxydation, f; thermische Oxydierung, f rus. термическое окисление, n; термическое оксидирование, n pranc. oxydation… … Radioelektronikos terminų žodynas
Rapid Thermal Oxidation — Rapid Thermal Processing (dt.: schnelle thermische Bearbeitung) ist ein Überbegriff für die Bearbeitung von Wafern in einem Hochtemperaturprozess, bei dem eine sehr rasche Erhitzung des Wafers mit Halogenlampen erzielt wird. Inhaltsverzeichnis 1… … Deutsch Wikipedia
LOCOS-Prozess — LOCOS, kurz für englisch Local Oxidation of Silicon (dt. »lokale Oxidation von Silicium«, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur elektrischen Isolation von Bauelementen (meist Transistoren). Dafür wird der Silicium Wafer an… … Deutsch Wikipedia
LOCOS — LOCOS, kurz für Local Oxidation of Silicon (dt. »lokale Oxidation von Silicium«, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur elektrischen Isolation von Bauelementen (meist Transistoren). Dafür wird der Silicium Wafer an ausgewählten Stellen… … Deutsch Wikipedia
Rapid Thermal Processing — (dt.: schnelle thermische Bearbeitung) ist ein Überbegriff für die Bearbeitung von Wafern in einem Hochtemperaturprozess, bei dem eine sehr rasche Erhitzung des Wafers mit Halogenlampen erzielt wird. Inhaltsverzeichnis 1 Grundprinzip 2 Prozesse 2 … Deutsch Wikipedia
Siliciumdioxid — Kristallstruktur Grundstruktur der verschiedenen SiO2 Kristalle ist ein Tetraeder bei dem Silicium von vier Sauerstoffen umgeben ist … Deutsch Wikipedia
